SRAM高速局部电路图及性能特征分析

信息来源: 时间:2022-5-16

SRAM高速局部电路图及性能特征分析

SRAM高速

高速Cache存储器是开发高速计算机的一个关键部件。国际上大力开展各种中等容量超高速SRAM的研究开发工作,其中GaAs SRAM倍受重视,正是因为GaAs器件具有超高速性能。

用GaAs MESFET E/D电路可以方便地组成SRAM的单元及外围电路。图7.9为一种16K SRAM的局部电路。

SRAM高速局部电路

单元电路与一般E/D MOS SRAM六管单元相类似。译码器出于速度优化的考虑采用多级译码形式。E MESFET的开启电压为0.1V;D MESFET的开启电压为-0.4V;电源电压VDD为1V。此电路的地址取数时间tAC为7ns,工作功耗为1W。采用双层金属布线与1μm工艺,栅材料为WSi2


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