热载流子效应沟道场的简化模型与特性分析

信息来源: 时间:2022-3-8

热载流子效应沟道场的简化模型与特性分析

要计算热电子流,必须求解二维或三维泊松方程,求出沟道中电场分布,特别是在漏端附近的最大电场Em。为了精确求解,应采用数值解的方法,但实际应用中不太方便,物理意义不直观。为此,可采用解析式近似image.png:

沟道场的简化模型

其中image.png是短沟管的速度饱和电压。由第一章的(1.57)式知

沟道场的简化模型

其中Ec为饱和电场,约为沟道场的简化模型

由式(2.8)及(2.9)看出,在相同的VD条件下热电子效应与image.pngt密切相关。image.png越小,则Em越大,热电子效应越严重。L越小,则image.png越小,Em越大。

image.png及In不仅与VD相关,而且与VG、L等有关。图2.9为在不同VD条件下image.pngVG的关系曲线。由图可见,它们之间呈钟形曲线关系。当VG比较小时,VG的增加使IDS增加,而IDS的增加对image.png的增加起主要作用;当VG比较大时,VG增加使image.png增加,Em减小,导致image.png下降。

根据模似计算可得image.png的峰值与VD呈指数关系:

沟道场的简化模型

其中a为一个实验决定的系数。

Ig与VG也呈钟形曲线关系,但与image.png曲线略有不同。如图2.10所示,在VG<VDIg与VD基本无关。为分析其原因,把沟道分解成两段,即Vs至VG与VG至VD。只有前段对Ig有贡献,因为只有VG>Vc(沟道电位)栅电场才能吸引热电子,IgVD无关。随着VG的增加,对Ig有贡献部分增加,因而Ig也随之增加。当VG达到等于VD时,全沟道均对Ig有贡献,Ig达到峰值Igmax。进一步增加VG,由式(2.8)和(2.9)可知,会使Em下降,Ig也要下降。图2.10是一组不同VD值的Ig-VG曲线。随VD的增加,由于Em的增加使Igmax指数增加。

沟道场的简化模型

沟道场的简化模型

其中b是一个与沟长L有关的系数。


联系方式:邹先生

联系电话:0755-83888366-8022

手机:18123972950

QQ:2880195519

联系地址:深圳市福田区车公庙天安数码城天吉大厦CD座5C1

请搜微信公众号:“KIA半导体”或扫一扫下图“关注”官方微信公众号

请“关注”官方微信公众号:提供  MOS管  技术帮助

推荐文章