E/EMOS倒相器工作原理及倒相器性能的影响

信息来源: 时间:2020-10-28

E/EMOS倒相器工作原理及倒相器性能的影响

E/EMOS倒相器工作原理

一、工作原理

在E/EMOS倒相器电路中,负载管通常有两种偏置状态。一种是栅漏共接电源VDD,称为饱和型MOS负载;另一种是栅单接电源image.png,称为非饱和MOS负载。这两种负载M0S晶体管的连接方法,示于图2-5中。下面分别讨论这两种倒相器的工作原理。

E/EMOS倒相器工作

1、饱和MOS负载倒相器

(1)负载管的I-V特性 

在图2-5(a)中的TL是栅漏共接的MOS负载器件,它和上面讲的纯电阻负载不同,是一个随着源极电压不同而变化的可变电阻。由于VDD=E/EMOS倒相器工作,VDSimage.png,所以满足image.png。因此,它总是工作在饱和区。另外,我们可以看到,负载管的源电压Vs是变化的,因此会使栅偏压VGS也跟着变化,从而沟道电阻也跟着变化,这就是栅偏压VGS受源极电压VS的调制作用。图2-6(a)所示为E/EMOS倒相器工作对沟道调制的截面示意图。

当负载MOS品体管的源电压image.png增加时,引起栅源电压VGS变小,使得沟道变薄,沟道电阻增大,从而电流Ios也逐渐变小。图2-6(b)是共栅漏MOS负载的I-V特性曲线。可以看到,Vs=0时,VDD最大,所以Im也最大,当Vs增大时,VGS变小,Ios逐渐减小;当a增加到等于VDD-VT,这时VGS-VT,负载管处于微导通状态,因此IDS≈0。

从共都漏负我管的I-V特性曲线上看到,它的I-V特性是一条曲线,表明负载管是一个可变电阻,当Vs由0V变到VDD-VT时,其阻值越来越大。

(2)倒相器工作点

饱和负载MOS倒相器的倒相原理,与上述电阻负载倒相器的原理是相同的。当输入“1”电平时(image.png),输入MOS管导通。其实这时的负载管也是导通的,但由子输入管”,的导通电阻设计得比负载管的通导电阻小得很多,电源电压VDD绝大部分降落在负载管TL上,所以输出电压为“0”电平。

当输入为“0”电平时,输入MOS管image.png完全截止,其截止电阻很大,电源电压大部分降落在image.png上,所以输出为“1”电平。这时负载管上image.png,处于微导通状态。输入管截止和导通两个状态的两根输出特性曲线在图2-8中表示出来。如把负载管的I-V符性曲线(即为负载线)与输入管的两条输出特性曲线迭加起来,得到倒相器的输出特性曲线和两个工作点A和B,其中A为开态工作点,表示倒相器导通状态,输出“0”电平;B为关态工作点,表示倒相器截止状态,输出“1”电平。

E/EMOS倒相器工作

综上所述,饱和M0S倒相器,只用一个电源,结构比较简单,使用比较方便。但由于输出最大电压只能达到VDD-VTL,比电源电压低一个圈值电压的数值,而且VS不直接接地,出于背面栅效应,VT的数值要增大,降低了输出电压幅度。如果要求输出较高的高电平。就得提高电源电压,产生不必要的电源损失;而且,由于负载管工作在饱和区,当输出接近高电平值时,负载教管临近截止状态,电阻变得很大,对电路速度不利,这在下面还要分析。

2、非饱和MOS例相器 

上面讲到,饱和负载MOS倒相器虽然结构简单,但有明显的缺点。为了改进倒相器的性能,提高输出电压幅度和工作速度,可将倒相器负载管的栅极单独接一个电源VGS,使负载管工作在非饱和区。这种倒相器称为非饱和负载MOS倒相器,如图2-9所示。

为使负载管工作在非饱和区,必须满足:

E/EMOS倒相器工作

由于:

E/EMOS倒相器工作

因此:

E/EMOS倒相器工作

E/EMOS倒相器工作

这就是说,要使负载管工作在非饱区,image.png的取值至少要比VDD高一个阀值电压image.png

E/EMOS倒相器工作

与前面分析饱和负载MOS倒相器的方法相同,将负载管的I-V特性与输入管导通、截止两个状态的输出特性迭加起来,就得到倒相器的输出特性曲线和两个工作点A和B。如图2-10所示。A为开态工作点;B为关态工作点。由于负载管始终工作在非饱和区,沟道电阻很小,image.png,所以输出高电平近似等于VDD

综上所述,非饱和MOS负载倒相器有以下的特点:负载管始终工作在非饱和区,阻值较小,有利于提高工作速度;输出摆幅较大,最大输出电压可达到电源电压VDD;但由于增加一个电源,增加了线路结构的复杂性;况且功耗较大,输出低电平的数值稍有提高。


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