信息来源: 时间:2020-10-26
MOS管的频率在工作频率增高到一定值以后,它的特性就将随着频率的增高而变坏。大家知道,MOS管的沟道区隔着绝缘的氧化层,在这一氧化层上面覆盖着金属栅电极,于是就形成了以氧化物为介质的平板电容器,称为栅电容,用符号表示。如果在某一时刻输入信号的变化使增加时,沟道中感生的载流子将增多。这些感生载流子的增多过程也就是栅电容的充电过程。充电是通过MOS管的通导电阻进行的,其充电时间常数为而当VG减小时,就要通过放电。
当输入信号的周期比栅电容通过充放电的时间常数长很多时(低频情况),栅电容的充放电过程就进行得很充分,输出信号就完全能够跟上输入信号的变化。MOS管的频率。这时,MOS管的放大性能将不会受到影响。但是,当输入信号的周期比栅电容充放电的时间常数还小,也就是输入信号的角频率比MOS管的固有频率高时,即。这样,栅电容的充放电过程就进行得不够充分,输出信号就不能完全跟上输入信号的变化。此时,MOS管的放大特性就要变坏。
当输入信号的角频率时,我们定义这时的频率为MOS管的最高频率,用fm表示。
由于,上式可改写为:
式中为平行板电容器电容,可近似地写成。为单位面积氧化层电容。A为栅下面的沟道面积。于是可写成:
再把代入(1-68)式得:
这就是MOS管的最高工作频率表达式。这里的是用氧化层电容代入的,实际的将随VGS的变化而改变其大小。
从(1-69)式中看到,MOS管的频率,MOS管的最高频率,与沟道长度的平方成反比。可见,要提高MOS管的最高频率,沟道长度L就必须设计得短一点。另外,与成正比。由于电子迁移率比空穴迁移率大,所以在其它条件相同的情况下,N沟道MOS管的高频性能要比P型沟道MOS管要好。为了对有一个定量的概念,下面举一个例子。
若某一N沟道MOS器件的可算得:
这是一个频率相当高的器件。实际上,MOS管的频率,在MOS电路里的管,其最高频率最少也要低2~3个数量级。这是因为存在许多寄生电容。其中有金属栅与源极扩散区交迭造成的栅源覆盖电容(还包括引线间的分布电容)、栅和漏之间的附加寄生电容;另外还有漏极与P型基片间的PN结电容和其他寄生电容,将构成漏和源间的附加寄生电容。这些电容附加到MOS管之上(如图1-34),将使器件频率特性进一步变坏。
在MOS集成电路里,除了MOS管的电容外,还有其他图1-35 MOS管的一些寄生电容,在电路中起很大作用。这是MOS集成电路速度低谢加密生电容的原因所在。图1-35表示MOS集成电路中各类寄生电容示意图,其中:
MOS沟道电容;
PN结电容;
:金属覆盖氧化层电容;
金属一薄氧化层-N区电容;
金属-厚氧化层-N区电容。
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